Болтовня

По вине ASML внедрение следующего поколения EUV-литографии задержится на три года

Литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) обеспечила возможность уменьшения транзисторов на полупроводниковых чипах без дальнейшего увеличения количества фотошаблонов. Её внедрение задержалось на несколько лет относительно первоначальных сроков, но теперь становится ясно, что и EUV-литография следующего поколения тоже задержится. Источник изображения: ASML

Author

mrzorg